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石墨盘专用真空烤盘炉
真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体：N2，H2)。主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。
所属分类：
关键词：半导体专用设备
产品描述
(1)产品介绍：真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体：N2，H2)。主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。
(2)技术参数
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使用温度 |
1450℃ |
最高温度 |
1500℃ |
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绝热材料 |
石墨纤维毯、石墨纸 |
马弗材料 |
SUS304 |
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加热元件 |
石墨加热棒 |
冷却方式 |
气冷+循环风冷降温 |
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控温稳定度 |
±2℃，具有PID参数自整定功能 |
炉膛温度均匀度 |
±5℃（恒温1550℃） |
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控温热偶 |
S 分度 |
最大升温速率 |
15℃/min（空载） |
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控温点数 |
1点 |
降温速率 |
1450℃至80℃，240分钟 |
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监测点数 |
1点 |
极限真空 |
10-3torr级 |
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气氛 |
可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气，纯度≧99.999% |
抽气速率 |
空载下，30min达到10-2torr |
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报警保护 |
超温、断偶、停气等声光报警保护 |
设备颜色 |
电脑驼灰色 |
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电源 |
容量大于160KVA，3相5线，220/380VAC，50Hz |
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参考型号 |
MOLKP-518 |
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