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全自动SIC复合覆膜立式炉

本产品主要面向SIC功率器件制造领域,在氮气氛围中对SIC/PI复合薄膜进行600-1050℃的碳化处理,在碳化过程中,SIC纳米粒子与PI作用形成化学键合,使其耐热性得到提高。

所属分类:

关键词:半导体专用设备

产品咨询:

产品描述

  产品用途:

  本产品主要面向SIC功率器件制造领域,在氮气氛围中对SIC/PI复合薄膜进行600-1050℃的碳化处理,在碳化过程中,SIC纳米粒子与PI作用形成化学键合,使其耐热性得到提高。

  产品特点:

  1.一体式人机操作系统,连续式自动化生产,工作效率高,节约人工成本、电能及工艺时间;

  2.FEC加热,升温迅速且均匀度好;

  3.优质不锈钢材质,表面经物理及化学抛光处理,确保洁净度;

  4.自带自清洁功能——高温清洁。

  技术参数:

处理产品

6/8inch 晶圆

处理量

100PCS/管

加热器

圆形FEC加热板

上料口

2个 

机械手

1

温度范围

长期使用温度: 950℃,最高温度:1200℃

升温速率

<8℃/min

降温速率

<7℃/min

加热功率

30kW(单炉)

加热温区

3个

炉温均匀性

±2℃(950℃恒温)

控温热偶

K分度

温度控制方式

SSR

程序控制

P.I.D控制

炉膛材料

石英

保温材料

陶瓷纤维

气氛控制

多路流量计调节进气:流量计量程:
1)0-150L/min  氮气  2)0-40L/min  氧气

气氛

N2/O2

排气系统

在顶部设置排气烟囱,用于废气排放,回收

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